揭示了对含有锂的经过离子交换的化学强化玻璃进行表征的方法。该方法能够对化学强化含Li玻璃中的应力分布进行质量控制，所述化学强化含Li玻璃具有在含钾盐(特别是同时具有钾和钠的盐)中产生的表面应力尖峰。该方法实现了对表面压缩和尖峰深度、及其对中心张力的贡献、和尖峰底部的压缩以及总中心张力进行测量，以及计算在应力分布的尖峰与深区域相交的膝处的应力。测量是用于商业上重要的基材内部除了尖峰之外的大部分地方是近抛物线形状的分布。
本公开的一个方面涉及对具有表面应力尖峰的化学强化含Li玻璃进行表征的方法，例如，该玻璃是通过例如离子交换过程产生的(即，碱性离子的内扩散)，从而Li+与K+和Na+离子发生交换(即，Na+)。该方法产生对表面压缩和尖峰深度的测量，及其对于中心张力的贡献，以及在尖峰底部的压缩和总中心张力。
优选地，进行该方法以获得商业上重要的应力分布，例如，在除了与基材表面相邻的尖峰之外的基材的大部分内部是近抛物线形状的那种。尖峰通常是通过K+离子的较缓慢扩散(且由此较浅扩散)形成的，而基本上抛物线部分是通过Na+离子的较快速扩散(且由此较深扩散)形成的。该方法能够验证分布已经达到近抛物线模式，例如，具有自我一致性检查(self-consistency check)。该方法还包括对进行加工的玻璃样品进行质量控制。此类质量控制对于商业上可行的制造工艺是重要的。
本公开提供了对化学强化含Li玻璃中的应力分布进行质量控制的方法，所述化学强化含Li玻璃具有在含钾盐(特别是同时具有钾和钠的盐)中产生的表面应力尖峰。对于商业上重要的在(除了尖峰之外的)基材的大部分内部是近抛物线形状的分布，该方法实现了对表面压缩和尖峰深度进行测量，及其对于中心张力的贡献，以及在尖峰底部的压缩和总中心张力。该方法能够检查分布已经达到近抛物线模式，例如，具有自我一致性检查(self-consistency check)。该方法提供了对于质量控制特别重要的工具，这对于采用实现制造这些重要分布的含锂玻璃是必须的。
对尖峰底部的应力水平(即，膝应力)进行测量的现有技术方法具有以下限制：横向电场(TE)角度耦合谱的临界角转变的位置的测量度较差。这种差的度是TE转变的固有方面，这是广泛的，并且因此在棱镜耦合光谱中显得模糊。这种锐度缺乏导致测得的模线(mode line)位置易受照明角度分布的不均匀性(例如，背景不均匀性)和简单的图像噪声的干扰。
本文所揭示的数种方法避免了对于确测量TE转变的临界角位置的确测量的需求。在方法的一个方面，测量了表面应力和尖峰中的应力斜率以及尖峰的深度(层深度或DOL)，其中，通过仅使用TM波的临界角转变，非常确地测量了DOL。这种TM转变比TE转变更为锐利，因而实现了确得多的测量。因此，在方法的一个例子中，没有使用TE模谱(特别是TE谱的TE转变)来确定尖峰的DOL。
知道了表面应力和尖峰的斜率以及尖峰的深度(上文所述的DOL)，则确定了尖峰底部的应力，其中，尖峰的底部存在于深度＝DOL处。这是“膝应力”并且在本文中表示为CS膝或者CSk，或者更一般形式σ膝。然后根据现有技术方法进行应力分布属性的余下计算。
本文所揭示的第二种的方法避免了对膝应力进行直接测量并且通过使用TM和TE偏振都共用的后导模的双折射来计算膝应力，以及确地确定了所述后共用导模的双折射与膝处应力之间的关系。与临界角(特别是在含Li玻璃的尖峰深分布情况下TE波的临界角)测量的度相比，利用了模位置(mode position)的测量度通常更好的优点。
本文所揭示的方法的优点在于，它们不是破坏性的，并且可以以高产率和高度进行，来确定与制造化学强化玻璃中的扩散工艺相关的关键参数。这些关键参数包括：CS、尖峰深度、压缩深度的估算和易碎性状态(基于通过该方法提供的CT的估算)。另一个优点在于，该方法可以在用于目前生产的化学强化玻璃的质量控制的现有硬件上，通过相对适度的软件增强来执行。